高強度黑光燈用于光刻機行業(yè)

生產(chǎn)光刻機的潔凈室對環(huán)境潔凈度要求特別高，光刻機的部件在生產(chǎn)和裝配時都需要控制particle，要確保每個部件上沒有particle，上海路陽生產(chǎn)的大功率LED黑光燈,能夠激發(fā)paiticle發(fā)出明亮藍(lán)色熒光，檢查人員在上海路陽的黑光燈下能夠檢測工件表面的有沒有particle存在。LUYOR-365L便攜式高強度手電筒式黑光燈采用可充電的鋰電池供電，攜帶方便，能夠?qū)饪虣C的大型部件的每個部位進(jìn)行檢測，LUYOR-3405臺式LED高強度黑光燈采用臺式設(shè)計，高度和照射角度一定范圍內(nèi)可任意調(diào)節(jié)，適合對光刻機的小部件以及光刻機的配套廠家進(jìn)行大批量長時間檢測。目前，LUYOR-365L手電筒式黑光燈和LUYOR-3405臺式黑光燈被多家光刻機行業(yè)用戶認(rèn)可和選購。

如果您對路陽高強度黑光燈感興趣，希望試用路陽高強度黑光燈或了解高強度黑光燈價格，請聯(lián)系徐經(jīng)理

光刻機的主要廠家有：

1.上海微電子裝備有限公司（SMEE）
上海微電成立于2002年3月，是我國國內(nèi)能夠做光刻機的企業(yè)。目前，更先進(jìn)的光刻機是ASML的極紫外光刻（EUV），用于7nm、5nm光刻技術(shù)，對于EUV光刻關(guān)鍵技術(shù)，國外進(jìn)行了嚴(yán)重的技術(shù)封鎖。我國在2017年，多個科研單位合作經(jīng)過7年的潛心鉆研，突破了EUV關(guān)鍵技術(shù)。根據(jù)相關(guān)資料披露，計劃2030年實現(xiàn)EUV光刻機國產(chǎn)化。

上海微電子設(shè)備公司已生產(chǎn)出90納米的光刻機設(shè)備，這也是生產(chǎn)國產(chǎn)光刻機的更高技術(shù)水平，比ASML公司差不多有10年的差距。因為西方有簽協(xié)議，芯片核心部件材料不能出口到中國，實施封鎖政策，導(dǎo)致國產(chǎn)光刻機發(fā)展緩慢，上海微電子克服困難自己生產(chǎn)這些零部件。目前生產(chǎn)出來的光刻設(shè)備已用到很多的國產(chǎn)企業(yè)中，而且也在對封鎖進(jìn)行聯(lián)合公關(guān)，相信不久就可以向45nm、28nm邁進(jìn)。

2.中科院光電所
中科院光電所研發(fā)出365納米波長，曝光分辨率達(dá)到22納米的光刻機，是近紫外的光線，離極紫外還有一點差距。光刻機的波長決定了芯片工藝的大小，波長越短，造價越高。像ASML更先進(jìn)的EUV極紫外光刻機，波長只有13.5納米，可以生產(chǎn)10nm、7nm的芯片?，F(xiàn)在一般使用的是193納米波長的光刻機，分辨率卻只有38納米，而中科院研發(fā)的光刻機采用了雙重曝光的技術(shù)，可以達(dá)到22納米。不過相關(guān)專業(yè)人士也指出，這種技術(shù)只能做短周期的點線光刻，無法滿足芯片的復(fù)雜圖形，后續(xù)還在不斷優(yōu)化和改進(jìn)中。

3.合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司
合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司成立與2006年4月，是國內(nèi)半導(dǎo)體直寫光刻設(shè)備制造商。該公司自主研發(fā)的ATD4000，已經(jīng)實現(xiàn)更高200nm的量產(chǎn)。不過按照目前***新消息其已經(jīng)申請破產(chǎn)清算，主要是光刻機對研發(fā)的投入資金是在太大，又沒有成熟的產(chǎn)品面向市場，終究難免面臨倒閉的風(fēng)險。上海微電子也是通過快速占領(lǐng)光刻后道工藝技術(shù)，迅速占領(lǐng)國內(nèi)80%市場份額，才得以生存。

4.無錫影速半導(dǎo)體科技有限公司
無錫影速成立于2015年1月，影速公司是由中科院微電子研究所聯(lián)合業(yè)內(nèi)子技術(shù)團(tuán)隊、產(chǎn)業(yè)基金共同發(fā)起成立的專業(yè)微電子裝備高科技企業(yè)。該公司已經(jīng)成功研制用于半導(dǎo)體領(lǐng)域的激光直寫/制版光刻設(shè)備，已經(jīng)實現(xiàn)更高200nm的量產(chǎn)。

5.先騰光電科技有限公司
先騰光電成立于2013年4月，已經(jīng)實現(xiàn)更高200nm的量產(chǎn)，在2014國際半導(dǎo)體設(shè)備及材料展覽會上，先騰光電亮出了完全自主知識產(chǎn)權(quán)的LED光刻機生產(chǎn)技術(shù)。